退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對(duì)不同的效果而設(shè)計(jì)的?？梢约訜峋约せ顡诫s劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長(zhǎng)的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動(dòng)摻雜劑或?qū)诫s劑從一個(gè)薄膜轉(zhuǎn)移到另一個(gè)薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。那么以下是退火爐的特點(diǎn)：

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特點(diǎn)：
1、電爐裝載量大、生產(chǎn)率高，特別適用于小、中型機(jī)件的熱處理加熱用，節(jié)能達(dá)30%，爐溫均勻，智能數(shù)顯表PID自動(dòng)控制爐溫，精密高；
2、電爐裝御料方便，作條件好；
3、爐門與爐體的密封為自動(dòng)密封，無(wú)需人工密封；
4、電爐設(shè)有連鎖保護(hù)裝置，可防止因誤作而發(fā)生的故障及事故。罩式退火爐四、罩式退火爐罩式退火爐主要用于在
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